山東新澤儀器有限公司

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山東新澤儀器有限公司致力于各個行業(yè)各種在線的氧分析儀、CEMS煙氣連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)、VOC在線監(jiān)測系統(tǒng)、露點儀、分析儀、一氧化碳分析儀、二氧化碳分析儀、二氧化硫分析儀、煤氣含氧分析儀、焦爐煤氣分析系統(tǒng)、高爐噴煤分析系統(tǒng)、轉爐煤氣分析系統(tǒng)、電石爐尾氣分析儀、水泥窯氣體分析系統(tǒng)、合成氨氣體分析系統(tǒng)、石化行業(yè)分析系統(tǒng)、煙氣在線分析儀的技術性研究、產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及運營維護;我們堅持提供的產(chǎn)品解決方案方便的技術查詢。同時我們帶來美國PID、西門子、仕富梅、富士電機、西克麥哈克、ABB等進口氣體分析儀。
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環(huán)保部指定環(huán)境監(jiān)測產(chǎn)品SCR脫硝氨逃逸監(jiān)測分析儀系統(tǒng)
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產(chǎn)品/服務: 瀏覽次數(shù):225氨逃逸監(jiān)測分析儀 
型 號: TK-1100型 
品 牌: 新澤儀器 
單 價: 1200.00元/臺 
起訂量: 1 臺 
供貨總量:
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內發(fā)貨
更新日期: 2018-09-10  有效期至:長期有效
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產(chǎn)品屬性
 產(chǎn)品型號:  TK-1100型
 產(chǎn)品規(guī)格:  
 產(chǎn)品品牌:  新澤儀器
產(chǎn)品優(yōu)勢
本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術及可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術;紫外差分吸收光譜技術原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過對連續(xù)光譜做算法分析,可同時測量多種氣體,有效避免各組分相互干擾;激光光譜氣體分析技術已經(jīng)廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領域。
詳細信息

關鍵詞:氨逃逸監(jiān)測儀,氨逃逸監(jiān)測系統(tǒng),激光氨逃逸分析儀,激光氨逃逸分析系統(tǒng),氨逃逸設備,sncr脫硝氨逃逸率,脫硝氨逃逸激光分析系統(tǒng),激光逃逸氨系統(tǒng),脫硝氨逃逸分析儀,氨逃逸儀器 

產(chǎn)品圖片:                                         

產(chǎn)品介紹:

品牌: SINZEN(新澤儀器)

型號:TK-1100

廠家:山東新澤儀器有限公司

一、產(chǎn)品概述煙氣氨逃逸監(jiān)測分析儀系統(tǒng)(高溫抽取激光)

    脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)(TK-1100型)是由我公司榮譽出品,本系統(tǒng)包括預處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術及可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術;紫外差分吸收光譜技術原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過對連續(xù)光譜做算法分析,可同時測量多種氣體,有效避免各組分相互干擾;激光光譜氣體分析技術已經(jīng)廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領域。

    本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)(TK-1100型)耐用且易于安裝,特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測,包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

   在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領域,例如燃煤發(fā)電廠,都安裝了前燃(pre-combustion)或后燃(post combustion)NOX 控制技術的脫硝裝置,后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),但是無論應用哪種方法,基本原理都是一樣的,即都是通過往反應器內注入氨與氮氧化物發(fā)生反應,產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式,也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式,無論何種形式,控制好氨的注入總量和氨在反應區(qū)的空間分布便可以大化的降低NOX 排放。

    氨注入的過少,就會降低還原轉化效率,氨注入的過量,不但不能減少NOX 排放,反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區(qū),逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的鹽發(fā)生反應生成銨鹽,且主要都是重銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀,例如沉淀在空氣預熱器扇面上,會造成嚴重的設備腐蝕,并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象,高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴重的問題。

 2.2氨逃逸的危害

(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費,環(huán)境污染;

(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;

(3)逃逸的氨氣,會與空氣中的SO3生成氨鹽(具有腐蝕性和粘結性)使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕;

(4)過量的逃逸氨會被飛灰吸收,導致加氣塊(灰磚)無法銷售;

三、規(guī)格與技術參數(shù)

 指標

測量范圍

0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設定

響應時間

<20s

線性誤差

<1%F.S

零點漂移

可忽略

重復性

1%F.S

標定

出廠時已標定,無需定期標定

輸入和輸出信號

模擬量輸出

4-20mA電流環(huán),750ΩMax,隔離

報警輸出

濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報警

繼電器輸出

2路(可擴展),觸點負載24V,2A

通訊接口

RS485,雙端隔離

工作條件

環(huán)境溫度

(-20)~50℃

保護等級

IP54

工作電壓

200V-240VAC,50Hz

電源功耗

≤3000W

預熱時間

1小時

伴熱溫度

180℃~240℃


采樣流量

2~20L/min(可根據(jù)用戶需求定制)

尺寸

機柜

1000×1200×600mm(默認尺寸)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡介

    本系統(tǒng)的流路主要由測量流路、反吹流路、標定流路及渦旋制冷流路組成,具體流路示意圖如下:

    系統(tǒng)進入測量狀態(tài)后,電動執(zhí)行機構帶動兩通球閥切換到采樣氣路,在引流泵的作用下,被測氣體經(jīng)由探頭桿、,兩通球閥、二級過濾器進入NH3模塊,NH3模塊利用吸收技術(TDLAS)對氣體進行分析,得到NH3的濃度(高溫熱濕法),后排空。

    系統(tǒng)定時會進入校準狀態(tài)進行自動調零,此時兩通球閥切換到校準氣路,校準電磁閥打開,在引流泵的作用下,環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準電磁閥后進入氣體室,對氣體室中殘留的被測氣體進行吹掃,吹掃干凈后,對NH3進行一次調零;系統(tǒng)定時會進入反吹狀態(tài)對采樣探頭進行反吹,此時兩通球閥切換到反吹氣路,反吹電磁閥打開,系統(tǒng)自動控制反吹電磁閥開或關,實現(xiàn)對探頭過濾器的反吹。

五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機箱

取樣探頭

    裝置是具有電加熱伴熱功能,能自行加熱并實施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下:

 結構:裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。

機箱規(guī)格:

本系統(tǒng)集成于機箱,具體尺寸如下圖: 

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