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半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管制造工藝取得突破

2016-05-04   瀏覽次數(shù):403

環(huán)球塑化網(wǎng) www.PVC123.com 訊:

  據(jù)外媒報(bào)道,美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校(UW Madison)的研究人員們,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大大簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管 (MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問題。

半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管制造工藝取得突破
半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管制造工藝取得突破

  目前這項(xiàng)研究的詳情,已經(jīng)發(fā)表在近日出版的《科學(xué)報(bào)告》(Scientific Reports)期刊上。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場。

  研究人員稱,這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。

  由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問題。

  具體說來就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng),因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。

  通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,并導(dǎo)致性能下降。

  不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手(包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。

  展開來說就是:(1)研究團(tuán)隊(duì)從給270nm厚的硅表面涂層‘正摻雜’開始,然后用電子束光刻生成的納米溝槽,接著通過干蝕刻來制備硅納米薄膜。 (2)隨后,研究人員取出硅納米薄膜層,將之挪到另一個(gè)有粘合劑塑料涂層的襯底薄膜上。(3)最后一步是添加額外的干蝕劑來隔離和定義溝道區(qū)域,部署柵極電介質(zhì)層和金屬柵極。

  雖然聽起來工作量很大,但與當(dāng)前的半導(dǎo)體制造工藝相比,它算得上是一種相對簡單的過程了。事實(shí)上,已經(jīng)有報(bào)道稱某新型晶體管在以38GHz的破紀(jì)錄速度下運(yùn)行,模擬顯示其甚至能夠在輕微優(yōu)化后達(dá)到110GHz。

  除了速度的提升,新技術(shù)也沒有影響制程的進(jìn)一步縮小。研究人員還聲稱,新型晶體管特別適合于無線頻率方面的應(yīng)用,因?yàn)樗褪菫闊o線收發(fā)數(shù)據(jù)和電力而設(shè)計(jì)的,可穿戴電子設(shè)備和傳感器將證明它有極大的價(jià)值。

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